公开(公告)号
CN1960999A
公开(公告)日
2007.05.09
申请(专利)号
CN200580017193.0
申请日期
2005.05.26
专利名称
吲哚并吡咯并咔唑衍生物的制备方法
主分类号
C07H19/23(2006.01)I
分类号
C07H19/23(2006.01)I
分案原申请号
优先权
2004.5.28 JP 160193/2004
申请(专利权)人
万有制药株式会社
发明(设计)人
饭田刚彦;平贺彰一;竹泽彰纮;间濑俊明
地址
日本东京都
颁证日
国际申请
2005-05-26 PCT/JP2005/009674
进入国家日期
2006.11.27
专利代理机构
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
孙秀武;李平英
国省代码
日本;JP
主权项
式(I)所示吲哚并吡咯并咔唑衍生物或其可药用的盐的制备方法, [化1] 其特征在于:该方法包含以下步骤: (i)在惰性溶剂中,将通式(V)所示化合物、其溶剂合物或它们的盐用碱处理,接着用酸处理的步骤; [化2] 式中,Y1表示氢原子、碳原子数为1-4的烷基、苯基、苄氧基甲基或芳烷基,R1、R2、R3、R4、R5和R6可以相同或不同,表示羟基的保护基团, (ii)在惰性溶剂中,将上述步骤所得反应液进一步用碱处理,接着用酸处理,得到通式(IV)所示化合物或其盐的步骤; [化3] 式中,R1、R2、R3、R4、R5和R6可以相同或不同,表示羟基的保护基团, (iii)在酸清除剂的存在下,将上述步骤所得的通式(IV)所示化合物和通式(III)所示肼二醇或其酸加成盐反应,得到通式(II)所示化合物或其盐的步骤; [化4] 式中,XA不存在或表示酸分子,R7和R8可以相同或不同,表示氢原子或羟基的保护基团, [化5] 式中,R1、R2、R3、R4、R5和R6可以相同或不同,表示羟基的保护基团,R7和R8可以相同或不同,表示氢原子或羟基的保护基团, (iv)除去所得通式(II)所示化合物的保护基团的步骤。
摘要
本发明涉及可用作抗癌药的吲哚并吡咯并咔唑衍生物(I)或其可药用的盐的适合工业化的制备方法。根据本发明的制备方法,在惰性溶剂中,对通式(V)所示化合物、其溶剂合物或它们的盐用碱处理,接着用酸处理;在惰性溶剂中,将所得反应液进一步用碱处理,接着在用酸处理,然后将所得化合物与肼二醇的酸加成盐在酸清除剂的存在下反应,通过除去所得化合物的保护基团,可制备式(I)所示的吲哚并吡咯并咔唑衍生物或其可药用的盐。
国际公布
2005-12-08 WO2005/116044 日
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